К 2017 году Intel планирует освоить 7 нм техпроцесс
 

О графике освоения компанией Intel очередных ступеней литографического техпроцесса мы последний раз слышали в начале мая. Тогда взору общественности открылась перспектива до 2015 года включительно – компания рассчитывает к этому времени освоить 10 нм техпроцесс.

На этой неделе Intel провела мероприятие по имени Research@Intel, в рамках которого первые лица компании рассказали о планах на будущее и перспективных разработках. График освоения новых ступеней литографического техпроцесса был продлён за пределы 2015 года – теперь Intel открыто указывает, что в 2017 году планирует освоить 7 нм технологические нормы.


Между тем, полный перечень технологий, которые позволят выпускать полупроводниковые элементы подобных размеров, ещё не определён. Intel не исключает, что в этом десятилетии начнёт использовать соединения германия, оптические межсоединения, вычислительную литографию, нановолокна, а также синтезируемые на молекулярном уровне материалы нового типа.

Источник: Overclockers.ru


Это что же получается, друзья, к моему тридцатилетию техпроцесс в минуса уйдет?

Давно пора :)

хех... через 4 года апгрейд банки под 10 нм, а еще спустя 2 года под 7 нм, копим бабки! к этому же периоду еще и ОЗУ DDR4 будет.

ДДР6-7, по ходу... 4-ое поколение уже анонсировано.
Конец света в 2012, куда они там считают? :D